掩模對準曝光機是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的機器設備。該儀器可廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領。

 

　　技術數據：

　　掩模對準曝光機以其多功能性和可靠性而著稱，在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優(yōu)化的總體擁有成本，提供了先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

　　該儀器或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

　　產品特點：

　　1、高清彩色雙顯示屏；

　　2、設備穩(wěn)定性，耐用性超高；

　　3、操控手柄調控模式的*設計；

　　4、抗衍射反射的高效光學光路設計；

　　5、可選支持單面對準和雙面對準設計；

　　6、帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；

　　7、采用LED穿透物鏡照明技術，具有*對準亮度；

　　8、采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；

　　9、具有自動執(zhí)行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；

　　10、操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；

　　11、全新氣動軸承導軌設計，高jīng準，低磨損，無需售后維護的；

　　12、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭；雙頭高清全彩物鏡。